集成电路布图设计的法律保护(2)

　　二、保护模式之检讨

　　无论是对开发者、创作者利益的保护，还是促进集成电路产业的发展，乃至保证市场交易的产权清晰，都还只是我们的一种良好的愿望。既有的法律保护模式和规则的内容是否有利于实现以及在多大程度上实现了这些目的仍然是值得我们反思的问题。关于规则内容的讨论，笔者将在本文的后面几部分展开。这里主要探讨一下法律保护模式的合理性和更多选择的可能性问题。1984年美国颁布了世界上第一部集成电路保护法《半导体芯片保护法》，其后日本于1985年颁布了《半导体集成电路线路布局法》，欧盟于1986年颁布了《半导体形貌结构法律指令》，这样似乎在世界范围内形成了一个布图设计保护的统一模式-进行专门的特别立法。也正是在这些立法的影响下我国的集成电路布图设计的法律保护也采用的是专门立法的方式。然而，1989年WIPO制定的《关于集成电路的知识产权条约》（《华盛顿条约》）对“保护的法律形式”并没有统一的要求。该条约第4条规定“每一缔约方可自由通过布图设计（拓扑图）的专门法律或者通过其关于版权、专利、实用新型、工业品外观设计、不正当竞争的法律，或者提供任何其他法律或者任何上述法律的结合来履行其按照本条约应负的义务。”因此，我们至少可以说，对集成电路进行专门立法保护的模式只是可供选择的模式之一，不是必然的路径。即使在最初选择这种方式的美国也有着相当激烈的争论，最终是尽可能扩大保护的思想占了上风，于是舍弃了有许多限制的版权法和专利法保护模式。然而，从美国《半导体芯片保护法》颁布以来二十年的法律实践来看，几乎没有诉讼案件，集成电路布图设计专有权的登记申请数量也少得可怜，[8]这不能不让我们怀疑专门立法的合理性了。而且，中国集成电路的产业状况与美国有很大的差距，我们虽然有必要对集成电路进行法律保护，但是否已经成熟到进行专门立法是不无疑问的。我国目前虽然已经制定了《集成电路布图设计保护条例》，但笔者担心这可能是浪费了立法成本而迈出的错误一步。从集成电路作为工业产品的性质来看，它理应受工业产权来保护，但人们在实践中发现，除少数集成电路的设计、制造工艺可以得到专利保护之外，大部分集成电路的开发尽管需要投入大量的智力劳动，但难以达到专利法所要求的创造性、新颖性等标准，无法获得专利法的保护。[9]集成电路产业中用来衡量技术发展水平的标准-集成度，与专利法中的创造性标准体系并不协调。半导体存储器规模的扩大使得一个集成电路芯片上所包含的电子元器件数量增多，即集成度提高，但这更多的是通过对现有技术的合理应用实现的，因此通常不具有创造性。[10]另外，在集成电