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MEMS微加速度计的设计与性能控制
摘要 目前研究较多、具有良好应用前景的微加速度计是依托微机电系统(MEMS)加工技术制作而成的微加速度计,其中尤以电容式加速度计最为重要。它具有结构较为简单、制作工艺与常规微电子加工工艺兼容、灵敏度高、使用简便等优点。本文针对电容式微加速度计的使用要求,分析其结构和工作原理,对其互补金属-氧化物-半导体(CMOS)的制造工艺特点也做了简要描述。主要给出了其核心部件---执行器的设计,定量给出了弹簧的劲度系数、阻尼因子等关键技术指标,并分析了它们对加速度计性能的影响。
关键词 微加速度计,CMOS-MEMS结构,电容,劲度系数,阻尼因子
一 引言
MEMS是英文Micro Electro Mechanical Systems的缩写,即微电子机械系统。微电子机械系统(MEMS)技术是建立在微米/纳米技术(micro/nanotechnology)基础上的21世纪前沿技术,是指对微米/纳米材料进行设计、加工、制造、测量和控制的技术。它可将机械构件、光学系统、驱动部件、电控系统集成为一个整体单元的微型系统。这种微电子机械系统不仅能够采集、处理与发送信息或指令,还能够按照所获取的信息自主地或根据外部的指令采取行动。它用微电子技术和微加工技术(包括硅体微加工、硅表面微加工、LIGA和晶片键合等技术)相结合的制造工艺,制造出各种性能优异、价格低廉、微型化的传感器、执行器、驱动器和微系统。微电子机械系统(MEMS)是近年来发展起来的一种新型多学科交叉的技术,该技术将对未来人类生活产生革命性的影响,它涉及机械、电子、化学、物理、光学、生物、材料等多学科。
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图1 微加速度计的结构示意图。 (科教范文网 fw.nseac.com编辑发布)
2.2 MEMS微加速度计的工作原理
加速度计的工作原理可概述如下:当加速度计连同外界物体(该物体的加速度就是待测的加速度)一起加速运动时,质量块就受到惯性力的作用向相反的方向运动。质量块发生的位移受到弹簧和阻尼器的限制。显然该位移与外界加速度具有一一对应的关系:外界加速度固定时,质量块具有确定的位移;外界加速度变化时(只要变化不是很快),质量块的位移也发生相应的变化。另一方面,当质量块的发生位移时,可动臂和固定臂(即感应器)之间的电容就会发生相应的变化;如果测得感应器输出电压的变化,就等同于测得了执行器(质量块)的位移。既然执行器的位移与待测加速度具有确定的一一对应关系,那么输出电压与外界加速度也就有了确定的关系,即通过输出电压就能测得外界加速度。
具体地说,以Vm表示输入电压信号,Vs表示输出电压,Cs1与Cs2分别表示固定臂与可动臂之间的两个电容(见图2),则输入信号和输出信号之间的关系可表示为:
(1)
其中电容与位移之间的关系由电容的定义给出:
(2)
其中x是可动臂(执行器)的位移,d是没有加速度时固定臂与悬臂之间的距离。
由(2)式和(1)式可得
(3)
根据力学原理,稳定情况下质量块的力学方程为:
(4)
k为弹簧的劲度系数,m为质量块的质量。因此,外界加速度与输出电压的关系为:
(5)
可见,在加速度计的结构和输入电压确定的情况下,输出电压与加速度呈正比关系。
图2 (a)执行器的力学结构示意图,(b)感应器的电学原理图。
三 MEMS微加速度计的制造工艺
以往的加速度计都是利用传统的机械加工方法制造的,但是这种加速度计的体积大、分量重,应用场合受到很大限制,MEMS技术制造的微加速度计克服了这些缺点。这里以COMS-MEMS加工技术为例,其加工流程大体如下: (科教范文网http://fw.nseac.com)
如图3所示,经过CMOS浇铸工艺之后就得到如图3(a)的效果,再用CHF3/O2进行各向异性的反应离子刻蚀(reactive ion etch,即RIE)腐蚀掉外层氧化物,得到如图3(b)所示的效果,接下来用SF6/O2来腐蚀体硅,便从衬底上得到微结构,即如图3(c)所示的效果。
图3 CMOS-MEMS加工工艺流程图:(a)经过MOS工艺加工后;(b)经过介质腐蚀工艺后;(c)经过体硅腐蚀工艺后。
图4是微加速度计工艺完成以后芯片的扫描电子显微镜(SEM)照片。
图4 微加速度计芯片的扫描电镜(SEM)照片(a)及其局部放大图(b)。
四 MEMS微加速度计主要性能指标的设计和控制
在加速度变化的动态过程中,质量块的位移是时间的函数。根据牛顿第二定律,质量块的运动由下列二次常微分方来描述
(6)
其中,k为弹簧的劲度系数,b为阻尼部件的阻尼因子,aext 是外部加速度。可见,弹簧部件的设计和阻尼部件的设计对加速度计的性能是至关重要的。
4.1 弹簧劲度系数的控制
对于弹簧,其构造实际上是如图5所示的力学结构。不难分析得到,其劲度系数为:
图5 弹簧结构示意图
(7)
其中,E是杨氏模量,h是