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| 全部作者： | 吴峻岭 巢永烈 汲平 |
| 第1作者单位： | 山东大学口腔医学院 |
| 摘要： | 目的: 研究1种新的工程学真空镀膜技术－等离子磁控反应溅射技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响。方法: 用DA9-4烤瓷支架钴铬合金制成标准金属基片，并在金属基片上瓷前利用等离子磁控反应溅射技术在其表面溅射生成1层Al2O3陶瓷薄膜，对其表面形貌、结构、厚度进行分析；金属基片与VMK95瓷粉烧结形成标准3点弯曲试件测定其结合强度；并观察金瓷界面的形貌及元素分布情况。结果: 溅射镀膜后的金瓷结合强度明显高于对照组（P<0.05）。结论: 等离子磁控反应溅射技术有改善新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的作用。 |
| 关键词： | 溅射；钴铬合金；结合强度 远程下载 (免费PDF全文) |
| 发表日期： | 2005年12月30日 |
| 同行评议： | （暂时没有） |
| 综合评价： | （暂时没有） |
| 修改稿： |